【ETRON】商标详情
- ETRON
- 6451812
- 已注册
- 普通商标
- 2007-12-21
4214 , 4220 4214-材料测试,
4220-半导体晶片之测试,
4220-半导体记忆体之研发及顾问,
4220-积体电路之测试,
4220-记忆体模组之研发及顾问
4214-材料测试;4220-半导体晶片之测试;4220-半导体记忆体之研发及顾问;4220-积体电路之测试;4220-记忆体模组之研发及顾问 - 1306
- 2012-04-06
- 1318
- 2012-07-07
- 2022-07-07-2032-07-06
- 钰创科技股份有限公司
- 台湾省新竹市************
- 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
2021-09-06 商标续展 | 核准通知打印发送
2021-08-02 商标续展 | 申请收文
2012-07-26 商标注册申请 | 打印注册证
2010-10-18 驳回复审 | 补充材料收文
2010-08-24 驳回复审 | 打印受理通知
2010-07-20 驳回复审 | 申请收文
2010-06-29 商标注册申请 | 打印驳回通知
2008-01-14 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-12-21 商标注册申请 | 申请收文
- ETRON
- 6451812
- 已注册
- 普通商标
- 2007-12-21
4214 , 4220 4214-材料测试,
4220-半导体晶片之测试,
4220-半导体记忆体之研发及顾问,
4220-积体电路之测试,
4220-记忆体模组之研发及顾问
4214-材料测试;4220-半导体晶片之测试;4220-半导体记忆体之研发及顾问;4220-积体电路之测试;4220-记忆体模组之研发及顾问 - 1306
- 2012-04-06
- 1318
- 2012-07-07
- 2022-07-07-2032-07-06
- 钰创科技股份有限公司
- 台湾省新竹市************
- 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
2021-09-06 商标续展 | 核准通知打印发送
2021-08-02 商标续展 | 申请收文
2012-07-26 商标注册申请 | 打印注册证
2010-10-18 驳回复审 | 补充材料收文
2010-08-24 驳回复审 | 打印受理通知
2010-07-20 驳回复审 | 申请收文
2010-06-29 商标注册申请 | 打印驳回通知
2008-01-14 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-12-21 商标注册申请 | 申请收文
