【恩力】商标详情
- 恩力
- 81932580
- 已注册
- 普通商标
- 2024-11-13
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0102-无机酸,
0102-碱,
0102-蒸馏水,
0102-酸,
0102-金属酸洗用酸,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-分离和脱胶用制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-散热器清洗化学品,
0104-水净化用化学品,
0104-脱胶制剂（分离）,
0104-脱胶和分离用制剂,
0104-除水垢剂
0101-半导体用硅;0102-无机酸;0102-碱;0102-蒸馏水;0102-酸;0102-金属酸洗用酸;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-分离和脱胶用制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-散热器清洗化学品;0104-水净化用化学品;0104-脱胶制剂（分离）;0104-脱胶和分离用制剂;0104-除水垢剂 - 1927
- 2025-03-13
- 1939
- 2025-06-14
- 2025-06-14-2035-06-13
- 无锡市恩力智能科技有限公司
- 江苏省无锡市************
- 无锡睿升知识产权代理事务所(普通合伙)
2025-07-08 商标注册申请 | 注册证发文
2024-12-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-11-13 商标注册申请 | 申请收文
2024-11-13 00:00:00 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
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0102-碱,
0102-蒸馏水,
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0102-金属酸洗用酸,
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0104-脱胶制剂（分离）,
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0104-除水垢剂
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