【图形】商标详情
- 图形
- 71965404
- 待审中
- 普通商标
- 2023-06-01
4209 , 4211 , 4214 , 4216 , 4227 4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体设计,
4209-技术研究,
4209-物理学研究,
4209-集成电路设计,
4211-化学分析,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4227-平面美术设计
4209-半导体加工技术研究;4209-半导体封装设计;4209-半导体设计;4209-技术研究;4209-物理学研究;4209-集成电路设计;4211-化学分析;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4227-平面美术设计 - 浙江珏芯微电子有限公司
- 浙江省丽水市莲都区南明山街道石牛路268号1幢B座307室
- 北京思创大成知识产权代理有限公司
2023-10-14 驳回复审 | 申请收文
2023-09-16 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-01 商标注册申请 | 申请收文
- 图形
- 71965404
- 待审中
- 普通商标
- 2023-06-01
4209 , 4211 , 4214 , 4216 , 4227 4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体设计,
4209-技术研究,
4209-物理学研究,
4209-集成电路设计,
4211-化学分析,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4227-平面美术设计
4209-半导体加工技术研究;4209-半导体封装设计;4209-半导体设计;4209-技术研究;4209-物理学研究;4209-集成电路设计;4211-化学分析;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4227-平面美术设计 - 浙江珏芯微电子有限公司
- 浙江省丽水 市莲都区南明山街道石牛路268号1幢B座307室
- 北京思创大成知识产权代理有限公司
2023-10-14 驳回复审 | 申请收文
2023-09-16 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-01 商标注册申请 | 申请收文