【图形】商标详情
- 图形
- 81596842
- 已注册
- 普通商标
- 2024-10-25
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0113 0101-稀土,
0102-氧化铅,
0102-氧化铬,
0102-金属氧化物,
0103-工业用同位素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品
0101-稀土;0102-氧化铅;0102-氧化铬;0102-金属氧化物;0103-工业用同位素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品 - 1922
- 2025-02-06
- 1934
- 2025-05-07
- 2025-05-07-2035-05-06
- 中核（天津）机械有限公司
- 天津市天津市************
- 北京启成知识产权代理有限公司
2025-05-30 商标注册申请 | 注册证发文
2024-11-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-25 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-10-25
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0113 0101-稀土,
0102-氧化铅,
0102-氧化铬,
0102-金属氧化物,
0103-工业用同位素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品
0101-稀 土;0102-氧化铅;0102-氧化铬;0102-金属氧化物;0103-工业用同位素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品 - 1922
- 2025-02-06
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- 2025-05-07
- 2025-05-07-2035-05-06
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2025-05-30 商标注册申请 | 注册证发文
2024-11-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-10-25 商标注册申请 | 申请收文
