【图形】商标详情
- 图形
- 69284841
- 已注册
- 普通商标
- 2023-01-19
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0102-对称二苯硫脲,
0102-工业用谷氨酸,
0102-碳化硅（原材料）,
0103-核反应堆减速材料,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂
0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0102-对称二苯硫脲;0102-工业用谷氨酸;0102-碳化硅（原材料）;0103-核反应堆减速材料;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂 - 1859
- 2023-10-13
- 1871
- 2024-01-14
- 2024-01-14-2034-01-13
- 兆科（蚌埠）电子科技有限公司
- 安徽省蚌埠市************
- 金银策文化发展（苏州）有限公司
2024-02-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-09-28 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-08-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-02-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-01-19 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
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- 2023-01-19
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0102-对称二苯硫脲,
0102-工业用谷氨酸,
0102-碳化硅（原材料）,
0103-核反应堆减速材料,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂
0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0102-对称二苯硫脲;0102-工业用谷氨酸;0102-碳化硅（原材料）;0103-核反应堆减速材料;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂 - 1859
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2023-09-28 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-08-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-02-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-01-19 商标注册申请 | 申请收文
