
【立道科技大学】商标详情

- 立道科技大学
- 66248176
- 已销亡
- 普通商标
- 2022-07-28
0102 , 0104 0102-工业用贵金属盐,
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-处理有害废物用化学品,
0104-工业用化学制剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-金属电镀用化学成分,
0104-金属着色用盐,
0104-钢材制造用表面处理剂
0102-工业用贵金属盐;0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-处理有害废物用化学品;0104-工业用化学制剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-金属电镀用化学成分;0104-金属着色用盐;0104-钢材制造用表面处理剂 - 重庆立道新材料科技有限公司
- 重庆市重庆市************
- 邮寄办理
2023-01-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-11-08 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2022-11-08 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-08-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-08-12 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-07-28 商标注册申请 | 申请收文
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0104-工业用化学制剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-金属电镀用化学成分,
0104-金属着色用盐,
0104-钢材制造用表面处理剂
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