【RAKUSO】商标详情
- RAKUSO
- 41301951
- 已注册
- 普通商标
- 2019-09-25
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0108 0101-工业用石墨,
0102-工业用氧化钴,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-生产加工用去污剂,
0104-铸造制模用制剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）
0101-工业用石墨;0102-工业用氧化钴;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用抗静电制剂;0104-生产加工用去污剂;0104-铸造制模用制剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-离子交换树脂膜（化学制剂） - 1685
- 2020-02-27
- 1697
- 2020-05-28
- 2020-05-28-2030-05-27
- 东莞市乐创电子科技有限公司
- 广东省东莞市************
- 邦唐邦（北京）知识产权服务有限公司
2020-12-08 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2020-12-04 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2020-12-02 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2020-07-17 商标注册申请 | 注册证发文
2019-10-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-09-25 商标注册申请 | 申请收文
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0102-工业用氧化钴,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-生产加工用去污剂,
0104-铸造制模用制剂,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）
0101-工业用石墨;0102-工业用氧化钴;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用抗静电制剂;0104-生产加工用去污剂;0104-铸造制模用制剂;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-离子交换树脂膜（化学制剂） - 1685
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