【X 2】商标详情
- X 2
- 38732252
- 已注册
- 普通商标
- 2019-06-06
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-碱金属,
0102-有机卤代硅烷,
0102-有机砷化合物,
0102-有机硅烷,
0102-有机磷化合物,
0102-有机金属化合物,
0102-杂环化合物,
0102-茂金属,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）
0101-碱金属;0102-有机卤代硅烷;0102-有机砷化合物;0102-有机硅烷;0102-有机磷化合物;0102-有机金属化合物;0102-杂环化合物;0102-茂金属;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用） - 1700
- 2020-06-20
- 1712
- 2020-09-21
- 2020-09-21-2030-09-20
- 苏州欣溪源新材料科技有限公司
- 江苏省苏州市************
- 苏州创元专利商标事务所有限公司
2020-11-02 商标注册申请 | 注册证发文
2020-05-28 商标注册申请 | 等待驳回复审
2020-04-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-07-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-06-06 商标注册申请 | 申请收文
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- 2019-06-06
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-碱金属,
0102-有机卤代硅烷,
0102-有机砷化合物,
0102-有机硅烷,
0102-有机磷化合物,
0102-有机金属化合物,
0102-杂环化合物,
0102-茂金属,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）
0101-碱金属;0102-有机卤代硅烷;0102-有机砷化合物;0102-有机硅烷;0102-有机磷化合物;0102-有机金属化合物;0102-杂环化合物;0102-茂金属;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用） - 1700
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2020-11-02 商标注册申请 | 注册证发文
2020-05-28 商标注册申请 | 等待驳回复审
2020-04-03 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-07-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-06-06 商标注册申请 | 申请收文
