
【SIPRO PRO IN THE SI ERA】商标详情

- SIPRO PRO IN THE SI ERA
- 85623858
- 已初审
- 普通商标
- 2025-05-30
0102 , 0104 0102-氮化合物,
0102-氮氧化物,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产用抗氧化剂
0102-氮化合物;0102-氮氧化物;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用抗静电制剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产用抗氧化剂 - 1972
- 2026-02-20
- 漳州兮璞材料科技有限公司
- 福建省漳州市************
- 比比皆知(保定)知识产权服务有限公司
2025-12-15 商标注册申请 | 驳回通知书发文
2025-06-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-05-30 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-02-20 第1972期 查看公告
- SIPRO PRO IN THE SI ERA
- 85623858
- 已初审
- 普通商标
- 2025-05-30
0102 , 0104 0102-氮化合物,
0102-氮氧化物,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
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0104-工业用抗静电制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-生产用抗氧化剂
0102-氮化合物;0102-氮氧化物;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用抗静电制剂;0104-工业用清洁剂;0104-生产用抗氧化剂 - 1972
- 2026-02-20
- 漳州兮璞材料科技有限公司
- 福建省漳州市************
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2025-12-15 商标注册申请 | 驳回通知书发文
2025-06-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-05-30 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2026-02-20 第1972期 查看公告


