【赛美特】商标详情
- 赛美特
- 62190184
- 已注册
- 普通商标
- 2022-01-17
0302 , 0303 0302-家用化学清洁制剂,
0302-挥发碱（氨水）（去污剂）,
0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）,
0302-清洁用氨水,
0302-清洁用油,
0302-清洗用洗涤碱,
0302-硅 清洁剂,
0303-半导体表面用抛光剂,
0303-抛光制剂,
0303-抛光蜡
0302-家用化学清洁制剂;0302-挥发碱（氨水）（去污剂）;0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）;0302-清洁用氨水;0302-清洁用油;0302-清洗用洗涤碱;0302-硅清洁剂;0303-半导体表面用抛光剂;0303-抛光制剂;0303-抛光蜡 - 1787
- 2022-04-13
- 1799
- 2022-07-14
- 2022-07-14-2032-07-13
- 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众鼎专利商标代理事务所（普通合伙）
2023-02-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-08-11 商标注册申请 | 注册证发文
2022-03-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-01-17 商标注册申请 | 申请收文
- 赛美特
- 62190184
- 已注册
- 普通商标
- 2022-01-17
0302 , 0303 0302-家用化学清洁制剂,
0302-挥发碱（氨水）（去污剂）,
0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）,
0302-清洁用氨水,
0302-清洁用油,
0302-清洗用洗涤碱,
0302-硅清洁剂,
0303-半导体表面用抛光剂,
0303-抛光制剂,
0303-抛光蜡
0302-家用化学清洁制剂;0302-挥发碱（氨水）（去污剂）;0302-氨水（挥发性碱）（去污剂）;0302-清洁用氨水;0302-清洁用油;0302-清洗用洗涤碱;0302-硅清洁剂;0303-半导体表面用抛光剂;0303-抛光制剂;0303-抛光蜡 - 1787
- 2022-04-13
- 1799
- 2022-07-14
- 2022-07-14-2032-07-13
- 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众 鼎专利商标代理事务所（普通合伙）
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2022-08-11 商标注册申请 | 注册证发文
2022-03-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-01-17 商标注册申请 | 申请收文
