【杉昀科技】商标详情
- 杉昀科技
- 86701794
- 已初审
- 普通商标
- 2025-07-24
0101 , 0104 0101-化学用硫华,
0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0101-氟,
0101-氯气,
0101-石墨烯,
0101-硫,
0101-碱金属,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-化学用硫华;0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0101-氟;0101-氯气;0101-石墨烯;0101-硫;0101-碱金属;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1958
- 2025-11-06
- 苏州杉昀半导体科技有限公司
- 江苏省苏州市************
- 方为 （上海）企业登记代理有限公司
2025-09-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-07-24 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-11-06 第1958期 查看公告
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- 2025-07-24
0101 , 0104 0101-化学用硫华,
0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0101-氟,
0101-氯气,
0101-石墨烯,
0101-硫,
0101-碱金属,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-化学用硫华;0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0101-氟;0101-氯气;0101-石墨烯;0101-硫;0101-碱金属;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1958
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