
【盛剑科技】商标详情

- 盛剑科技
- 92807331
- 待审中
- 普通商标
- 2026-07-06
0101 , 0104 , 0106 0101-半导体用硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-处理有害废物用化学品,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-工业用清洁剂(半导体制造用),
0104-污染区净化用化学品,
0104-脱胶和分离用制剂(半导体制造用),
0106-废水处理用细菌
0101-半导体用硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-处理有害废物用化学品;0104-工业用废水处理化学品;0104-工业用清洁剂(半导体制造用);0104-污染区净化用化学品;0104-脱胶和分离用制剂(半导体制造用);0106-废水处理用细菌 - 上海盛剑科技股份有限公司
- 上海市上海市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2026-07-31 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-07-06 商标注册申请 | 申请收文
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0106-废水处理用细菌
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