【HIEND】商标详情
- HIEND
- 11463457
- 已注册
- 普通商标
- 2012-09-07
0101 0101-一氧化二氮,
0101-工业硅,
0101-无水氨,
0101-氢,
0101-氨,
0101-氮,
0101-结晶硅
0101-一氧化二氮;0101-工业硅;0101-无水氨;0101-氢;0101-氨;0101-氮;0101-结晶硅 - 1383
- 2013-11-13
- 1395
- 2014-02-14
- 2014-02-14-2024-02-13
- 湖南高安新材料有限公司
- 湖南省岳阳市************
- 北京正理知识产权代理有限公司
2014-03-04 商标注册申请 | 商标已注册
2014-03-04 商标注册申请 | 打印注册证
2013-09-28 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2012-09-17 商标注册申请 | 打印受理通知
2012-09-07 商标注册申请 | 商标注册申请中
2012-09-07 商标注册申请 | 申请收文
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0101-无水氨,
0101-氢,
0101-氨,
0101-氮,
0101-结晶硅
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