【AIMS FAB NEO】商标详情
- AIMS FAB NEO
- 90236391
- 待审中
- 普通商标
- 2026-02-14
0744 -制造用半导体曝光设备,
-半导体制造机,
-半导体制造用光刻机,
-半导体制造设备,
-半导体晶片加工机,
-半导体晶片处理设备,
-半导体芯片制造设备,
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- 巴伐利亚奥格斯堡************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2026-04-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-02-14 商标注册申请 | 申请收文
- AIMS FAB NEO
- 90236391
- 待审中
- 普通商标
- 2026-02-14
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- 巴伐利亚奥格斯堡************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2026-04-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-02-14 商标注册申请 | 申请收文
