【ULGLAZE】商标详情
- ULGLAZE
- G1080827
- 已注册
- 普通商标
- 2011-07-09
0744 0744-用于生产半导体的化学汽相沉积设备,
0744-用于生产半导体的真空沉积设备,
0744-用于生产半导体的阴极真空喷镀设备
0744-用于生产半导体的化学汽相沉积设备;0744-用于生产半导体的真空沉积设备;0744-用于生产半导体的阴极真空喷镀设备 - 2021-05-30-2031-05-30
- ULVAC， INC.
- 神奈川茅崎市************
- 国际局
2021-06-29 国际续展 | 申请核准审核
2021-06-20 国际续展 | 申请收文
2012-02-21 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2012-02-21 领土延伸 | 审查
2011-07-09 领土延伸 | 申请收文
- ULGLAZE
- G1080827
- 已注册
- 普通商标
- 2011-07-09
0744 0744-用于生产半导体的化学汽相沉积设备,
0744-用于生产半导体的真空沉积设备,
0744-用于生产半导体的阴极真空喷镀设备
0744-用于生产半导体的化学 汽相沉积设备;0744-用于生产半导体的真空沉积设备;0744-用于生产半导体的阴极真空喷镀设备 - 2021-05-30-2031-05-30
- ULVAC， INC.
- 神奈川茅崎市************
- 国际局
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2011-07-09 领土延伸 | 申请收文
