【微创】商标详情
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- 2008-06-03
4209 , 4210 , 4211 , 4212 , 4213 , 4214 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4224 , 4227 4209-半导体光刻技术的设计、测试和制作的技术咨询服务,
4209-技术研究,
4209-电子、微平板印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业领域的机器、设备和装置的技术研究,
4209-电子束写入领域的技术咨询,
4209-电子束写入领域的研究和开发(替他人),
4210-测量,
4211-化学研究,
4212-细菌学研究,
4213-气象预报,
4214-材料测试,
4216-包装设计,
4217-室内装饰设计,
4218-服装设计,
4220-尤其是高分辨率电子束的写入和纳米处理技术的计算机软件编程,
4220-用于电子、微平板印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业领域以及用于照相平板印刷掩模的设计、测试和制作的计算机软件维护,
4220-用于电子、微平板印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业领域以及用于照相平板印刷掩模的设计、测试和制作的计算机软件设计和开发,
4220-用于电子束写入和处理技术,
4220-计算机软件设计,
4224-艺术品鉴定,
4227-无形资产评估
4209-半导体光刻技术的设计、测试和制作的技术咨询服务;4209-技术研究;4209-电子、微平板印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业领域的机器、设备和装置的技术研究;4209-电子束写入领域的技术咨询;4209-电子束写入领域的研究和开发(替他人);4210-测量;4211-化学研究;4212-细菌学研究;4213-气象预报;4214-材料测试;4216-包装设计;4217-室内装饰设计;4218-服装设计;4220-尤其是高分辨率电子束的写入和纳米处理技术的计算机软件编程;4220-用于电子、微平板印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业领域以及用于照相平板印刷掩模的设计、测试和制作的计算机软件维护;4220-用于电子、微平板印刷、半导体、集成电路、磁畴存储器和集成光学系统工业领域以及用于照相平板印刷掩模的设计、测试和制作的计算机软件设计和开发;4220-用于电子束写入和处理技 术;4220-计算机软件设计;4224-艺术品鉴定;4227-无形资产评估 - 1221
- 2010-06-27
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- 2010-09-28
- 2010-09-28-2020-09-27
- 维斯泰克电子束设备有限责任公司
- 图林根耶拿************
- 永新专利商标代理有限公司
2017-10-23 撤销连续三年停止使用注册商标 | 排版送达公告(无退信)
2017-08-05