【毋界】商标详情
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- 待审中
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- 2024-10-21
0101 , 0102 0101-半导体用硅,
0101-工业用二氧化碳,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用天然石墨,
0101-工业用氧,
0101-工业用氨,
0102-工业用无水氢氧化钠,
0102-工业用类黄酮（酚类化合物）,
0102-工业用麝香草酚,
0102-清洁剂工业用酶制剂
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2024-10-21 商标注册申请 | 申请收文
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0101-工业用二氧化碳,
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0102-清洁剂工业用酶制剂
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