
【AF】商标详情

- AF
- 81725089
- 已初审
- 普通商标
- 2024-11-01
0104 , 0108 0104-分离和脱胶用制剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-喷雾器用气体推进剂,
0104-工业用洗净剂,
0104-油净化化学品,
0104-清漆溶剂,
0104-玻璃防污剂,
0104-脱胶制剂(分离),
0108-离子交换树脂膜(化学制剂)
0104-分离和脱胶用制剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-喷雾器用气体推进剂;0104-工业用洗净剂;0104-油净化化学品;0104-清漆溶剂;0104-玻璃防污剂;0104-脱胶制剂(分离);0108-离子交换树脂膜(化学制剂) - 1927
- 2025-03-13
- 浙江商林科技股份有限公司
- 浙江省绍兴市************
- 诸暨市极客知识产权代理有限公司
2024-11-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-11-01 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-03-13 第1927期 查看公告
- AF
- 81725089
- 已初审
- 普通商标
- 2024-11-01
0104 , 0108 0104-分离和脱胶用制剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-喷雾器用气体推进剂,
0104-工业用洗净剂,
0104-油净化化学品,
0104-清漆溶剂,
0104-玻璃防污剂,
0104-脱胶制剂(分离),
0108-离子交换树脂膜(化学制剂)
0104-分离和脱胶用制剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-喷雾器用气体推进剂;0104-工业用洗净剂;0104-油净化化学品;0104-清漆溶剂;0104-玻璃防污剂;0104-脱胶制剂(分离);0108-离子交换树脂膜(化学制剂) - 1927
- 2025-03-13
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