【中子】商标详情
- 中子
- 79763228
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-12
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业用石墨,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-稀土金属,
0102-碳化硅,
0104-半导 体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0115-工业用胶
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业用石墨;0101-石墨烯;0101-硅;0101-稀土金属;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0115-工业用胶 - 1917
- 2024-12-27
- 1929
- 2025-03-28
- 2025-03-28-2035-03-27
- 左奕乔
- 江苏省苏州市************
- 邮寄办理
2025-04-24 商标注册申请 | 注册证发文
2025-02-18 商标转让 | 核准证明打印发送
2024-12-18 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-11-06 商标转让 | 申请收文
2024-10-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-07-27 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-12 商标注册申请 | 申请收文
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- 2024-07-12
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业用石墨,
0101-石墨烯,
0101-硅,
0101-稀土金属,
0102-碳化硅,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0115-工业用胶
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业用石墨;0101-石墨烯;0101-硅;0101-稀土金属;0102-碳化硅;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0115-工业用胶 - 1917
- 2024-12-27
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2024-10-23 商标注册申请 | 驳回通知发文
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