【与光】商标详情
- 与光
- 60615806
- 已注册
- 普通商标
- 2021-11-16
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0107 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0103-可裂变的化学元素,
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-光谱感光板,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0103-可裂变的化学元素;0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-光谱感光板;0115-工业用黏合剂 - 1778
- 2022-02-06
- 1790
- 2022-05-07
- 2022-05-07-2032-05-06
- 北京与光科技有限公司
- 北京市北京市************
- 上海旗芃知识产权代理有限公司
2023-01-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2023-01-09 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2023-01-06 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-06-03 商标注册申请 | 注册证发文
2022-06-03 商标注册申请 | 等待注册证发文
2021-12-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-12-02 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2021-11-16 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0107 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0103-可裂变的化学元素,
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-光谱感光板,
0115-工业用黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0103-可裂变的化学元素;0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-光谱感光板;0115-工业用黏合剂 - 1778
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2022-06-03 商标注册申请 | 注册证发文
2022-06-03 商标注册申请 | 等待注册证发文
2021-12-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
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2021-11-16 商标注册申请 | 申请收文
