【LAPLACE】商标详情
- LAPLACE
- 71991229
- 已注册
- 普通商标
- 2023-06-02
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-磷酸铁锂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用 硅;0101-工业用固态气体;0101-工业硅;0101-石墨烯;0102-碳化硅（原材料）;0102-磷酸铁锂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1871
- 2024-01-13
- 1883
- 2024-04-14
- 2024-04-14-2034-04-13
- 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2024-05-08 商标注册申请 | 注册证发文
2024-01-01 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-11-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-02 商标注册申请 | 申请收文
- LAPLACE
- 71991229
- 已注册
- 普通商标
- 2023-06-02
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-太阳能电池用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-工业硅,
0101-石墨烯,
0102-碳化硅（原材料）,
0102-磷酸铁锂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-太阳能电池用硅;0101-工业用固态气体;0101-工业硅;0101-石墨烯;0102-碳化硅（原材料）;0102-磷酸铁锂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1871
- 2024-01-13
- 1883
- 2024-04-14
- 2024-04-14-2034-04-13
- 拉普拉斯新能源科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2024-05-08 商标注册申请 | 注册证发文
2024-01-01 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-11-06 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-06-02 商标注册申请 | 申请收文
