【EPOCH】商标详情
- EPOCH
- 5711551
- 已注册
- 普通商标
- 2006-11-09
0102 , 0104 0102-脯氨酸(工业化学品、化学原料),
0104-光电产品洗净剂(光电制造过程用),
0104-光阻剥除剂,
0104-半导体去光阻剂后之洗净剂(半导体制造过程用),
0104-半导体研磨后洗净剂(半导体制造过程用),
0104-半导体研磨垫洗净剂(半导体制造过程用),
0104-电子工业用洗净剂,
0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液),
0104-脯氨酸(工业化学品、化学原料),
0104-铜氧化抑制剂
0102-脯氨酸(工业化学品、化学原料);0104-光电产品洗净剂(光电制造过程用);0104-光阻剥除剂;0104-半导体去光阻剂后之洗净剂(半导体制造过程用);0104-半导体研磨后洗净剂(半导体制造过程用);0104-半导体研磨垫洗净剂(半导体制造过程用);0104-电子工业用洗净剂;0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液);0104-脯氨酸(工业化学品、化学原料);0104-铜氧化抑制剂 - 1187
- 2009-10-13
- 1199
- 2010-01-14
- 2020-01-14-2030-01-13
- 应特格有限公司
- 马萨诸塞比尔里卡************
- 北京市柳沈律师事务所
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2007-08-21 商标注册申请 | 等待补正回文
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0104-光电产品洗净剂(光电制造过程用),
0104-光阻剥除剂,
0104-半导体去光阻剂后之洗净剂(半导体制造过程用),
0104-半导体研磨后洗净剂(半导体制造过程用),
0104-半导体研磨垫洗净剂(半导体制造过程用),
0104-电子工业用洗净剂,
0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液),
0104-脯氨酸(工业化学品、化学原料),
0104-铜氧化抑制剂
0102-脯氨酸(工业化学品、化学原料);0104-光电产品洗净剂(光电制造过程用);0104-光阻剥除剂;0104-半导体去光阻剂后之洗净剂(半导体制造过程用);0104-半导体研磨后洗净剂(半导体制造过程用);0104-半导体研磨垫洗净剂(半导体制造过程用);0104-电子工业用洗净剂;0104-研磨剂(和研磨剂配用的辅助液);0104-脯氨酸(工业化学品、化学原料);0104-铜氧化抑制剂 - 1187
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