
【ORBIS】商标详情

- ORBIS
- 61610819
- 已注册
- 普通商标
- 2021-12-22
0734 , 0744 , 0747 , 0752 , 0754 -加工基片用干燥设备,
-加工基片用开发设备,
-加工基片用涂层设备,
-加工基片用淀积设备,
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-半导体晶片开发设备,
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-基片传输用机器人,
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-基片加工等离子体用机器,
-干蚀刻设备,
-用于制造半导体的原子层淀积(ALD)装置,
-用于制造半导体的原子层蚀刻(ALE)装置,
-用于制造半导体的等离子体淀积装置,
-等离子体淀积装置,
-蚀刻设备,
0734-输送机(机器),
0744-制造显示面板用的蚀刻设备,
0744-半导体制造机,
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0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体晶片蚀刻设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-用于制造半导体晶片的等离子体蚀刻装置,
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0744-电子工业设备,
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0744-静电工业设备,
0747-静电喷涂用自动喷射机,
0752-电动清洁机械和设备,
0752-蒸汽清洁器械,
0754-电镀机
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- 2022-07-13
- 1811
- 2022-10-14
- 2022-10-14-2032-10-13
- 细美事有限公司
- 忠清南道天安市************
- 北京中博世达专利商标代理有限公司
2022-11-05 商标注册申请 | 注册证发文
2022-07-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-05-08 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-04-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-03-20 商标注册申请 | 等待补正回文
2022-03-20 商标注册申请 | 补正回文
2022-02-09 商标注册申请 | 补正通知发文
2021-12-22 商标注册申请 | 申请收文
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0734 , 0744 , 0747 , 0752 , 0754 -加工基片用干燥设备,
-加工基片用开发设备,
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-用于制造半导体的原子层淀积(ALD)装置,
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-用于制 造半导体的等离子体淀积装置,
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