【拓合】商标详情
- 拓合
- 82664373
- 已注册
- 普通商标
- 2024-12-20
0104 , 0108 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工导电性树脂,
0108-未加工离子交换树脂,
0108-离子交换树脂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0108-离子交换树脂（化学制剂）
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0108-未加工合成树脂;0108-未加工导电性树脂;0108-未加工离子交换树脂;0108-离子交换树脂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0108-离子交换树脂（化学制剂） - 1930
- 2025-04-06
- 1942
- 2025-07-07
- 2025-07-07-2035-07-06
- 苏州拓合新材料科技有限公司
- 江苏省苏州市************
- 张家港搜联知识产权事务所有限公司
2025-09-10 商标注册申请 | 注册证发文
2025-01-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-12-20 商标注册申请 | 申请收文
- 拓合
- 82664373
- 已注册
- 普通商标
- 2024-12-20
0104 , 0108 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工导电性树脂,
0108-未加工离子交换树脂,
0108-离子交换树脂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）,
0108-离子交换树脂（化学制剂）
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0108-未加工合成树脂;0108-未加工导电性树脂;0108-未加工离子交换树脂;0108-离子交换树脂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂）;0108-离子交换树脂（化学制剂） - 1930
- 2025-04-06
- 1942
- 2025-07-07
- 2025-07-07-2035-07-06
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2025-09-10 商标注册申请 | 注册证发文
2025-01-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-12-20 商标注册申请 | 申请收文
