【ENTRON】商标详情
- ENTRON
- G1054069
- 已注册
- 普通商标
- 2010-11-23
0744 0744-其他的半导体生产设备,
0744-半导体晶片的加工设备,
0744-用于生产半导体设备的其他的真空薄膜成型设备,
0744-用于生产半导体设备的化学气相沉积设备,
0744-用于生产半导体设备的真空汽相淀积设备,
0744-用于生产半导体设备的等离子化学气相沉积设备,
0744-用于生产半导体设备的阴极真空喷镀设备,
0744-集成电路生产机械和设备
0744-其他的半导体生产设备;0744-半导体晶片的加工设备;0744-用于生产半导体设备的其他的真空薄膜成型设备;0744-用于生产半导体设备 的化学气相沉积设备;0744-用于生产半导体设备的真空汽相淀积设备;0744-用于生产半导体设备的等离子化学气相沉积设备;0744-用于生产半导体设备的阴极真空喷镀设备;0744-集成电路生产机械和设备 - 2020-08-25-2030-08-25
- ULVAC，INC.
- 神奈川茅崎市************
- 国际局
2020-09-25 国际续展 | 申请核准审核
2020-09-13 国际续展 | 申请收文
2011-07-25 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-07-25 领土延伸 | 审查
2010-11-23 领土延伸 | 申请收文
- ENTRON
- G1054069
- 已注册
- 普通商标
- 2010-11-23
0744 0744-其他的半导体生产设备,
0744-半导体晶片的加工设备,
0744-用于生产半导体设备的其他的真空薄膜成型设备,
0744-用于生产半导体设备的化学气相沉积设备,
0744-用于生产半导体设备的真空汽相淀积设备,
0744-用于生产半导体设备的等离子化学气相沉积设备,
0744-用于生产半导体设备的阴极真空喷镀设备,
0744-集成电路生产机械和设备
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- ULVAC，INC.
- 神奈川茅崎市************
- 国际局
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2020-09-13 国际续展 | 申请收文
2011-07-25 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
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2010-11-23 领土延伸 | 申请收文
