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【英特格】商标详情
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- 英特格
- 35430121
- 已注册
- 普通商标
- 2018-12-20
0101 , 0104 , 0106 , 0115 -亚大气压气体源(即吸附于吸附剂的气体(存储于气体供应容器,用于半导体、微电子、太阳能板盒平板显示器的制造)),
-亚大气压气体(即用于半导体、太阳能板和平板显示器制造的气体,但不包括天然气体),
-亚大气压气体(用于离子注入和化学气象沉积),
-加工气体(用于半导体、平板显示器、 光碟机和录音载体),
-化学品(即气相沉积用的化学成分),
-化学品(气相沉积金属化),
-化学品(用于半导体、集成电路、平板显示器、太阳能板和光电产品的制造),
-化学品(用于半导体制造的化学试剂传送系统),
-化学品(用于处理半导体用途的危险气体),
-化学组合物(即半导体制造的化学试剂),
-化学组合物(即用于电子和半导体制造工业的半导体制造的试剂),
-化学组合物(即试剂(即用于电子和半导体制造工业的外延薄膜材料、有机源试剂化合物和配合物,以及离子注材料)),
-化学组合物(用于将微电子制造业的制造材料从微电子产品(如晶片和微电子设备)中云除,使得被去除的材料能够再循环),
-化工原料(用于半导体、平板显示器和太阳能板制造中,在基板上沉积薄膜的化学组合物),
-化工原料(用于半导体晶片上薄膜沉积来制造半导体的化学组合物),
-可吸收气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体及微电子产品),
-含有气体供应设备的化学固态气体(用于存储气体和灵活分发气体,即化学固态气体,存储于包含用于灵活分发该气体的调压器和流量控制阀的金属器皿中,使该气体保持在加压或液态状态下,用于半导体制造),
-复合材料(即由聚合物和碳纳米管组成的复合材料,用于进一步制造模塑制品),
-气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体、微电子、太阳能板、平板显示器的制造),
-气体(存储于装有吸附材料的气体供应容器中,用于半导体制造及其他工业生产过),
0101-工业用固态气体,
0101-焊接用保护气体,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-气体净化剂,
0104-活性炭,
0104-活性炭(一般工业用),
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0115-工业用胶
-亚大气压气体源(即吸附于吸附剂的气体(存储于气体供应容器,用于半导体、微电子、太阳能板盒平板显示器的制造));-亚大气压气体(即用于半导体、太阳能板和平板显示器制造的气体,但不包括天然气体);-亚大气压气体(用于离子注入和化学气象沉积);-加工气体(用于半导体、平板显示器、光碟机和录音载体);-化学品(即气相沉积用的化学成分);-化学品(气相沉积金属化);-化学品(用于半导体、集成电路、平板显示器、太阳能板和光电产品的制造);-化学品(用于半导体制造的化学试剂传送系统);-化学品(用于处理半导体用途的危险气体);-化学组合物(即半导体制造的化学试剂);-化学组合物(即用于电子和半导体制造工业的半导体制造的试剂);-化学组合物(即试剂(即用于电子和半导体制造工业的外延薄膜材料、有机源试剂化合物和配合物,以及离子注材料));-化学组合物(用于将微电子制造业的制造材料从微电子产品(如晶片和微电子设备)中云除,使得被去除的材料能够再循环);-化工原料(用于半导体、平板显示器和太阳能板制造中,在基板上沉积薄膜的化学组合物);-化工原料(用于半导体晶片上薄膜沉积来制造半导体的化学组合物);-可吸收气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体及微电子产品);-含有气体供应设备的化学固态气体(用于存储气体和灵活分发气体,即化学固态气体,存储于包含用于灵活分发该气体的调压器和流量控制阀的金属器皿中,使该气体保持在加压或液态状态下,用于半导体制造);-复合材料(即由聚合物和碳纳米管组成的复合材料,用于进一步制造模塑制品);-气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体、微电子、太阳能板、平板显示器的制造);-气体(存储于装有吸附材料的气体供应容器中,用于半导体制造及其他工业生产过);0101-工业用固态气体;0101-焊接用保护气体;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-气体净化剂;0104-活性炭;0104-活性炭(一般工业用);0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0106-非医用、非兽医用化学试剂;0115-工业用胶 - 1649
- 2019-05-27
- 1661
- 2019-08-28
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2019-10-29 商标注册申请 | 注册证发文
2019-04-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-03-06 商标注册申请 | 等待补正回文
2019-02-26 商标注册申请 | 补正通知发文
2018-12-20 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0104 , 0106 , 0115 -亚大气压气体源(即吸附于吸附剂的气体(存储于气体供应容器,用于半导体、微电子、太阳能板盒平板显示器的制造)),
-亚大气压气体(即用于半导体、太阳能板和平板显示器制造的气体,但不包括天然气体),
-亚大气压气体(用于离子注入和化学气象沉积),
-加工气体(用于半导体、平板显示器、光碟机和录音载体),
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-化学品(气相沉积金属化),
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-化学品(用于处理半导体用途的危险气体),
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-化工原料(用于半导体晶片上薄膜沉积来制造半导体的化学组合物),
-可吸收气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体及微电子产品),
-含有气体供应设备的化学固态气体(用于存储气体和灵活分发气体,即化学固态气体,存储于包含用于灵活分发该气体的调压器和流量控制阀的金属器皿中,使该气体保持在加压或液态状态下,用于半导体制造),
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0101-工业用固态气体,
0101-焊接用保护气体,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
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0104-气体净化剂,
0104-活性炭,
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0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0106-非医用、非兽医用化学试剂,
0115-工业用胶
-亚大气压气体源(即吸附于吸附剂的气体(存储于气体供应容器,用于半导体、微电子、太阳能板盒平板显示器的制造));-亚大气压气体(即用于半导体、太阳能板和平板显示器制造的气体,但不包括天然气体);-亚大气压气体(用于离子注入和化学气象沉积);-加工气体(用于半导体、平板显示器、光碟机和录音载体);-化学品(即气相沉积用的化学成分);-化学品(气相沉积金属化);-化学品(用于半导体、集成电路、平板显示器、太阳能板和光电产品的制造);-化学品(用于半导体制造的化学试剂传送系统);-化学品(用于处理半导体用途的危险气体);-化学组合物(即半导体制造的化学试剂);-化学组合物(即用于电子和半导体制造工业的半导体制造的试剂);-化学组合物(即试剂(即用于电子和半导体制造工业的外延薄膜材料、有机源试剂化合物和配合物,以及离子注材料));-化学组合物(用于将微电子制造业的制造材料从微电子产品(如晶片和微电子设备)中云除,使得被去除的材料能够再循环);-化工原料(用于半导体、平板显示器和太阳能板制造中,在基板上沉积薄膜的化学组合物);-化工原料(用于半导体晶片上薄膜沉积来制造半导体的化学组合物);-可吸收气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体及微电子产品);-含有气体供应设备的化学固态气体(用于存储气体和灵活分发气体,即化学固态气体,存储于包含用于灵活分发该气体的调压器和流量控制阀的金属器皿中,使该气体保持在加压或液态状态下,用于半导体制造);-复合材料(即由聚合物和碳纳米管组成的复合材料,用于进一步制造模塑制品);-气体(存储于装有吸材料的气体供应容器中,用于半导体、微电子、太阳能板、平板显示器的制造);-气体(存储于装有吸附材料的气体供应容器中,用于半导体制造及其他工业生产过);0101-工业用固态气体;0101-焊接用保护气体;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-气体净化剂;0104-活性炭;0104-活性炭(一般工业用);0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0106-非医用、非兽医用化学试剂;0115-工业用胶 - 1649
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2019-04-24 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-03-06 商标注册申请 | 等待补正回文
2019-02-26 商标注册申请 | 补正通知发文
2018-12-20 商标注册申请 | 申请收文
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