【赛美科 SEMICOMAT】商标详情
- 赛美科 SEMICOMAT
- 84374620
- 已注册
- 普通商标
- 2025-03-28
0101 , 0104 , 0108 0101-氟,
0101-氯气,
0104-净化剂（澄清剂）,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-澄清剂,
0104-蓄电池硫酸盐清除剂,
0108-聚酰亚胺
0101-氟;0101-氯气;0104-净化剂（澄清剂）;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用清洁剂;0104-澄清剂;0104-蓄电池硫酸盐清除剂;0108-聚酰亚胺 - 1949
- 2025-08-27
- 1961
- 2025-11-28
- 2025-11-28-2035-11-27
- 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众鼎专利商标代理事务所（普通合伙）
2025-12-19 商标注册申请 | 注册证发文
2025-06-26 商标注册申请 | 驳回通知发文
2025-04-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-03-28 商标注册申请 | 申请收文
- 赛美科 SEMICOMAT
- 84374620
- 已注册
- 普通商标
- 2025-03-28
0101 , 0104 , 0108 0101-氟,
0101-氯气,
0104-净化剂（澄清剂）,
0104-化学冷凝制剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-澄清剂,
0104-蓄电池硫酸盐清除剂,
0108-聚酰亚胺
0101-氟;0101-氯气;0104-净化剂（澄清剂）;0104-化学冷凝制剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用清洁剂;0104-澄清剂;0104-蓄电池硫酸盐清除剂;0108-聚酰亚胺 - 1949
- 2025-08-27
- 1961
- 2025-11-28
- 2025-11-28-2035-11-27
- 深圳新宙邦科技股份有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳众鼎专利商标代理事务所（普通合伙）
2025-12-19 商标注册申请 | 注册证发 文
2025-06-26 商标注册申请 | 驳回通知发文
2025-04-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-03-28 商标注册申请 | 申请收文
