【INNO GAN】商标详情
- INNO GAN
- 53326346
- 已注册
- 普通商标
- 2021-01-27
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0102-氮化镓,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0102-氮化镓;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1750
- 2021-07-06
- 1762
- 2021-10-07
- 2021-10-07-2031-10-06
- 英诺赛科(珠海)科技有限公司
- 广东省珠海市************
- 华进联合专利商标代理有限公司
2021-11-24 商标注册申请 | 注册证发文
2021-04-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-13 商标注册申请 | 等待补正回文
2021-03-05 商标注册申请 | 补正通知发文
2021-01-27 商标注册申请 | 申请收文
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- 53326346
- 已注册
- 普通商标
- 2021-01-27
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0102-氮化镓,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0102-氮化镓;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1750
- 2021-07-06
- 1762
- 2021-10-07
- 2021-10-07-2031-10-06
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