【NSIT】商标详情
- NSIT
- 87099141
- 已初审
- 普通商标
- 2025-08-15
0101 , 0102 , 0104 -半导体制造用蚀刻剂,
-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
-半导体用硅,
-焊接用保护气体,
-石墨烯,
-硒,
-碱土金属,
- 碳化硅（原材料）,
-结晶硅,
-镓,
0101-半导体用硅,
0101-焊接用保护气体,
0101-石墨烯,
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
-半导体制造用蚀刻剂;-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;-半导体用硅;-焊接用保护气体;-石墨烯;-硒;-碱土金属;-碳化硅（原材料）;-结晶硅;-镓;0101-半导体用硅;0101-焊接用保护气体;0101-石墨烯;0101-硒;0101-碱土金属;0101-结晶硅;0101-镓;0102-碳化硅（原材料）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1961
- 2025-11-27
- 上海新硅聚合半导体有限公司
- 上海市上海市************
- 上海港荣知识产权代理有限公司
2025-09-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-08-15 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-11-27 第1961期 查看公告
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
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