【AIXTRON】商标详情
- AIXTRON
- G1394199
- 待审中
- 普通商标
- 2018-03-22
0729 , 0742 , 0744 0729-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器,
0742-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器,
0744-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器
0729-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器;0742-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器;0744-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积 （CVD）反应器 - AIXTRON SE
- 北莱茵-威斯特法伦黑措根拉特************
- 国际局
2019-10-09 驳回复审 | 实审裁文发文
2019-10-09 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2019-03-26 国际删减商品 | 申请收文
2019-01-17 驳回复审 | 申请收文
2018-12-27 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2018-12-27 领土延伸 | 驳回电子发文
2018-03-22 商标注册申请 | 申请收文
2018-03-22 领土延伸 | 申请收文
- AIXTRON
- G1394199
- 待审中
- 普通商标
- 2018-03-22
0729 , 0742 , 0744 0729-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器,
0742-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器,
0744-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器
0729-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器;0742-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器;0744-用于生产半导体和半导体器件的机械设备，尤指化学气相沉积（CVD）反应器 - AIXTRON SE
- 北莱茵-威斯特法伦黑措根拉特************
- 国际局
2019-10-09 驳回复审 | 实审裁文发文
2019-10-09 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2019-03-26 国际删减商品 | 申请收文
2019-01-17 驳回复审 | 申请收文
2018-12-27 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2018-12-27 领土延伸 | 驳回电子发文
2018-03-22 商标注册申请 | 申请收文
2018-03-22 领土延伸 | 申请收文
