【HTL】商标详情
- HTL
- 65043661
- 已注册
- 普通商标
- 2022-06-02
0102 , 0104 , 0106 , 0113 0102-有机酸盐,
0102-透明质酸,
0102-酸,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-纤维润滑剂,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-科学用生物化学制剂,
0106-非医用、非兽医用诊断制剂,
0113-制化妆品用化学添加剂,
0113-制化妆品用胶原蛋白原料,
0113-制化妆品用谷氨 酸原料
0102-有机酸盐;0102-透明质酸;0102-酸;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-纤维润滑剂;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-科学用生物化学制剂;0106-非医用、非兽医用诊断制剂;0113-制化妆品用化学添加剂;0113-制化妆品用胶原蛋白原料;0113-制化妆品用谷氨酸原料 - 1811
- 2022-10-13
- 1823
- 2023-01-14
- 2023-01-14-2033-01-13
- 海雅透凝股份公司
- 哈里亚纳邦费尔达巴德************
- 北京信诺为知识产权代理有限公司
2023-02-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-02-07 商标注册申请 | 等待注册证发文
2022-06-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-06-18 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-06-02 商标注册申请 | 申请收文
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0102 , 0104 , 0106 , 0113 0102-有机酸盐,
0102-透明质酸,
0102-酸,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-纤维润滑剂,
0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0106-科学用生物化学制剂,
0106-非医用、非兽医用诊断制剂,
0113-制化妆品用化学添加剂,
0113-制化妆品用胶原蛋白原料,
0113-制化妆品用谷氨酸原料
0102-有机酸盐;0102-透明质酸;0102-酸;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-纤维润滑剂;0106-实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0106-科学用生物化学制剂;0106-非医用、非兽医用诊断制剂;0113-制化妆品用化学添加剂;0113-制化妆品用胶原蛋白原料;0113-制化妆品用谷氨酸原料 - 1811
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