【亚泽中保】商标详情
- 亚泽中保
- 40370079
- 已注册
- 普通商标
- 2019-08-15
0104 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-生产用抗氧化剂
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-生产用抗氧化剂 - 1694
- 2020-05-06
- 1706
- 2020-08-07
- 2020-08-07-2030-08-06
- 北京亚泽中保集成技术服务有限公司
- 北京市北京市************
- 北京壹川鸣知识产权代理事务所（特殊普通合伙）
2020-09-03 商标注册申请 | 注册证发文
2019-09-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-08-15 商标注册申请 | 申请收文
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- 40370079
- 已注册
- 普通商标
- 2019-08-15
0104 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用亮色化学品,
0104-工业用化学品,
0104-工业用洗净剂,
0104-生 产印刷电路板用化学涂层,
0104-生产用抗氧化剂
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用亮色化学品;0104-工业用化学品;0104-工业用洗净剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-生产用抗氧化剂 - 1694
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