【GBAW】商标详情
- GBAW
- 79491083
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-28
4209 , 4214 , 4216 , 4220 4209-为他人开发产品,
4209-为他人研究和开发新产品,
4209-产品质量检测服务,
4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体封装设计,
4209-半导体的设计,
4209-半导体设计,
4209-工程设计服务,
4209-技术开发领域的咨询服务,
4209-技术研究,
4209-技术项目研究,
4209-物理研究,
4209-电信技术领域的研究,
4209-电信设备和部件的设计,
4209-研究和开发新产品,
4209-科学实验室服务,
4209-科学研究,
4209-科学研究和开发,
4209-集成电路设计,
4214-产品测试,
4214-材料测试,
4216-移动电话设计,
4220-计算机硬件设计,
4220-计算机编程
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- 2024-09-13
- 1915
- 2024-12-14
- 2024-12-14-2034-12-13
- 武汉光钜微电子有限公司
- 湖北省武汉市************
- 北京派特恩知识产权代理有限公司
2024-07-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-28 商标注册申请 | 申请收文
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4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
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4209-半导体的设计,
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4209-工 程设计服务,
4209-技术开发领域的咨询服务,
4209-技术研究,
4209-技术项目研究,
4209-物理研究,
4209-电信技术领域的研究,
4209-电信设备和部件的设计,
4209-研究和开发新产品,
4209-科学实验室服务,
4209-科学研究,
4209-科学研究和开发,
4209-集成电路设计,
4214-产品测试,
4214-材料测试,
4216-移动电话设计,
4220-计算机硬件设计,
4220-计算机编程
4209-为他人开发产品;4209-为他人研究和开发新产品;4209-产品质量检测服务;4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-半导体封装设计;4209-半导体的设计;4209-半导体设计;4209-工程设计服务;4209-技术开发领域的咨询服务;4209-技术研究;4209-技术项目研究;4209-物理研究;4209-电信技术领域的研究;4209-电信设备和部件的设计;4209-研究和开发新产品;4209-科学实验室服务;4209-科学研究;4209-科学研究和开发;4209-集成电路设计;4214-产品测试;4214-材料测试;4216-移动电话设计;4220-计算机硬件设计;4220-计算机编程 - 1903
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