【图形】商标详情
- 图形
- 63646123
- 已注册
- 普通商标
- 2022-03-30
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-焊接用保护气体,
0102-碳化硅,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产用抗氧化剂
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-焊接用保护气体;0102-碳化硅;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产用抗氧化剂 - 1800
- 2022-07-20
- 1812
- 2022-10-21
- 2022-10-21-2032-10-20
- 广东省广新离子束科技有限公司
- 广东省广州市************
- 北京高沃国际知识产权代理有限公司
2022-11-12 商标注册申请 | 注册证发文
2022-04-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-03-30 商标注册申请 | 申请收文
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- 2022-03-30
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0101-焊接用保护气体,
0102-碳化硅,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-生产用抗氧化剂
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0101-焊接用保护气体;0102-碳化硅;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-生产用抗氧化剂 - 1800
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