【TRURAD】商标详情
- TRURAD
- G1443887
- 已销亡
- 普通商标
- 2019-01-10
0729 , 0744 0729-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器,
0744-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器
0729-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器;0744-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器 - 2018-12-05-2028-12-05
- MKS INSTRUMENTS， INC.
- 马萨诸塞安多佛************
- 国际局
2021-03-29 国际注销 | 申请收文
2019-05-09 领土延伸 | 审查
2019-01-10 商标注册申请 | 申请收文
2019-01-10 领土延伸 | 申请收文
- TRURAD
- G1443887
- 已销亡
- 普通商标
- 2019-01-10
0729 , 0744 0729-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器,
0744-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器
0729-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器;0744-用于蚀刻、光刻胶去除、剥离、溅射、沉积、化学气相沉积、离子注入、离子研磨、晶片处理、晶片清洁、晶片预清洁、辅助等离子体材料工程、表面预处理和表面处理的等离子体发生器 - 2018-12-05-2028-12-05
- MKS INSTRUMENTS， INC.
- 马萨诸塞安多佛************
- 国际局
2021-03-29 国际注销 | 申请收文
2019-05-09 领土延伸 | 审查
2019-01-10 商标注册申请 | 申请收文
2019-01-10 领土延伸 | 申请收文
