【SUBTRON】商标详情
- SUBTRON
- 40231107
- 已销亡
- 普通商标
- 2019-08-08
4209 , 4214 , 4216 4209-产品质量检测服务,
4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-研究和开发新产品,
4209-质量控制（为他人）,
4209-集成电路设计,
4214-产品测试,
4214-材料测试,
4216-包装设计服务,
4216-工业品外观设计服务
4209-产品质量检测服务;4209-光学组件的设计;4209-半导 体加工技术研究;4209-研究和开发新产品;4209-质量控制（为他人）;4209-集成电路设计;4214-产品测试;4214-材料测试;4216-包装设计服务;4216-工业品外观设计服务 - 1676
- 2019-12-20
- 1688
- 2020-03-21
- 2020-03-21-2030-03-20
- 旭德科技股份有限公司
- 台湾省************
- 北京维澳科技咨询有限公司
2024-04-16 撤销连续三年停止使用注册商标 | 排版送达公告(关于撤销连续三年未使用商标的决定)
2024-04-11 撤销连续三年停止使用注册商标 | 有退信(关于撤销连续三年未使用商标的决定)
2024-04-11 撤销连续三年停止使用注册商标 | 退信信息录入(关于撤销连续三年未使用商标的决定)
2024-04-09 撤销连续三年停止使用注册商标 | 撤销商标通知发文
2023-11-17 撤销连续三年停止使用注册商标 | 提供证明通知发文
2023-11-12 撤销连续三年停止使用注册商标 | 受理通知书发文
2023-09-29 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2020-05-12 商标注册申请 | 注册证发文
2020-05-12 商标注册申请 | 等待注册证发文
2019-08-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-08-30 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2019-08-08 商标注册申请 | 申请收文
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- 40231107
- 已销亡
- 普通商标
- 2019-08-08
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4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-研究和开发新产品,
4209-质量控制（为他人）,
4209-集成电路设计,
4214-产品测试,
4214-材料测试,
4216-包装设计服务,
4216-工业品外观设计服务
4209-产品质量检测服务;4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-研究和开发新产品;4209-质量控制（为他人）;4209-集成电路设计;4214-产品测试;4214-材料测试;4216-包装设计服务;4216-工业品外观设计服务 - 1676
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2024-04-11 撤销连续三年停止使用注册商标 | 有退信(关于撤销连续三年未使用商标的决定)
2024-04-11 撤销连续三年停止使用注册商标 | 退信信息录入(关于撤销连续三年未使用商标的决定)
2024-04-09 撤销连续三年停止使用注册商标 | 撤销商标通知发文
2023-11-17 撤销连续三年停止使用注册商标 | 提供证明通知发文
2023-11-12 撤销连续三年停止使用注册商标 | 受理通知书发文
2023-09-29 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2020-05-12 商标注册申请 | 注册证发文
2020-05-12 商标注册申请 | 等待注册证发文
2019-08-30 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-08-30 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2019-08-08 商标注册申请 | 申请收文
