【奥首】商标详情
- 奥首
- 86204583
- 已初审
- 普通商标
- 2025-06-30
0104 , 0106 , 0107 , 0108 0104-光致抗蚀剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-去光材料,
0104-电池用防硫化剂,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0106-科学用化学制剂（非医 用、非兽医用）,
0107-摄影用显影剂,
0107-照片显影用化学合成物,
0108-聚酰亚胺
0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-去光材料;0104-电池用防硫化剂;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-摄影用显影剂;0107-照片显影用化学合成物;0108-聚酰亚胺 - 1959
- 2025-11-13
- 浙江奥首材料科技有限公司
- 浙江省衢州市************
- 北京中北知识产权代理有限公司
2025-07-16 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-06-30 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-11-13 第1959期 查看公告
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0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-去光材料,
0104-电池用防硫化剂,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0107-摄影用显影剂,
0107-照片显影用化学合成物,
0108-聚酰亚胺
0104-光致抗蚀剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-去光材料;0104-电池用防硫化剂;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0107-摄影用显影剂;0107-照片显影用化学合成物;0108-聚酰亚胺 - 1959
- 2025-11-13
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- 浙江省衢州市************
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