
【NSI TEXE N】商标详情

- NSI TEXE N
- 36414656
- 已注册
- 普通商标
- 2019-02-20
4209 , 4216 , 4220 4209-半导体加工技术研究,
4209-填充用装置和机器的设计,
4209-工程设计服务,
4209-技术开发领域的咨询服务,
4209-技术研究,
4209-替他人开发产品,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-机械研究,
4209-电信设备和部件的设计,
4209-科学研究和开发,
4216-工业品外观设计,
4220-信息技术咨询服务,
4220-有关计算机操作的技术建议,
4220-有关计算机硬件设计的建议,
4220-通过网站提供计算机技术和编程信息
4209-半导体加工技术研究;4209-填充用装置和机器的设计;4209-工程设计服务;4209-技术开发领域的咨询服务;4209-技术研究;4209-替他人开发产品;4209-替他人研究和开发新产品;4209-机械研究;4209-电信设备和部件的设计;4209-科学研究和开发;4216-工业品外观设计;4220-信息技术咨询服务;4220-有关计算机操作的技术建议;4220-有关计算机硬件设计的建议;4220-通过网站提供计算机技术和编程信息 - 1692
- 2020-04-20
- 1704
- 2020-07-21
- 2020-07-21-2030-07-20
- 株式会社电装
- 爱知刈谷市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2024-11-13 商标转让 | 核准证明打印发送
2024-07-14 商标转让 | 申请收文
2020-08-26 驳回复审 | 打印注册证
2020-08-26 驳回复审 | 等待打印注册证
2020-04-02 驳回复审 | 实审裁文发文
2019-12-11 驳回复审 | 评审分案
2019-07-30 驳回复审 | 申请收文
2019-07-10 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-03-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-02-20 商标注册申请 | 申请收文
- NSI TEXE N
- 36414656
- 已注册
- 普通商标
- 2019-02-20
4209 , 4216 , 4220 4209-半导体加工技术研究,
4209-填充用装置和机器的设计,
4209-工程设计服务,
4209-技术开发领域的咨询服务,
4209-技术研究,
4209-替他人开发产品,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-机械研究,
4209-电信设备和部件的设计,
4209-科学研究和开发,
4216-工业品外观设计,
4220-信息技术咨询服务,
4220-有关计算机操作的技术建议,
4220-有关计算机硬件设计的建议,
4220-通过网站提供计算机技术和编程信息
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- 2020-04-20
- 1704
- 2020-07-21
- 2020-07-21-2030-07-20
- 株式会社电装
- 爱知刈谷市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2024-11-13 商标转让 | 核准证明打印发送
2024-07-14 商标转让 | 申请收文
2020-08-26 驳回复审 | 打印注册证
2020-08-26 驳回复审 | 等待打印注册证
2020-04-02 驳回复审 | 实审裁文发文
2019-12-11 驳回复审 | 评审分案
2019-07-30 驳回复审 | 申请收文
2019-07-10 商标注册申请 | 驳回通知发文
2019-03-06 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-02-20 商标注册申请 | 申请收文
