【GBF】商标详情
- GBF
- 74317912
- 已注册
- 普通商标
- 2023-09-26
0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-半导体用硅;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜 用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1870
- 2024-01-06
- 1882
- 2024-04-07
- 2024-04-07-2034-04-06
- 宏昌电子材料股份有限公司
- 广东省广州市************
- 广州新诺专利商标事务所有限公司
2024-05-09 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-09-26 商标注册申请 | 申请收文
- GBF
- 74317912
- 已注册
- 普通商标
- 2023-09-26
0101 , 0104 0101-半导体用硅,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层
0101-半导体用硅;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层 - 1870
- 2024-01-06
- 1882
- 2024-04-07
- 2024-04-07-2034-04-06
- 宏昌电子材料股份有限公司
- 广东省广州市************
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2024-05-09 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-09-26 商标注册申请 | 申请收文
