【HESTIA】商标详情
- HESTIA
- 58305116
- 已注册
- 普通商标
- 2021-08-08
0729 , 0744 0729-制清胶机,
0744-制造显示面板用的蚀刻设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-印刷电路板处理机,
0744-存储芯片制造机,
0744-电子工业设备
0729-制清胶机;0744-制造显示面板用的蚀刻设备;0744-半导体制造机;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-印刷电路板处理机;0744-存储芯片制造机;0744-电子工业设备 - 1767
- 2021-11-13
- 1779
- 2022-02-14
- 2022-02-14-2032-02-13
- 上海稷以科技有限公司
- 上海市上海市************
- 北京晨晟国际知识产权代理有限公司
2022-03-15 商标注册申请 | 注册证发文
2021-12-26 变更商标代理人 | 核准通知打印发送
2021-12-17 变更商标代理人 | 申请收文
2021-12-16 变更商标代理人 | 申请收文
2021-09-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-08-08 商标注册申请 | 申请收文
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- 58305116
- 已注册
- 普通商标
- 2021-08-08
0729 , 0744 0729-制清胶机,
0744-制造显示面板用的蚀刻设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-印刷电路板处理机,
0744-存储芯片制造机,
0744-电子工业设备
0729-制清胶机;0744-制造显示面板用的蚀刻设备;0744-半导体制造机;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-印刷电路板处理机;0744-存储芯片制造机;0744-电子工业设备 - 1767