【NEXASTEP】商标详情
- NEXASTEP
- G1699425
- 待审中
- 普通商标
- 2022-12-01
0729 , 0734 , 0744 , 0750 0729-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺,
0734-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱,
0744-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱,
0744-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶 片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺,
0750-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱
0729-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺;0734-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱;0744-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱;0744-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺;0750-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱 - 2022-10-21-2032-10-21
- AP&S INTERNATIONAL GMBH
- 巴登-符腾堡多瑙艾辛根************
- 国际局
2023-10-04 领土延伸 | 驳回电子发文
2022-12-01 商标注册申请 | 申请收文
2022-12-01 领土延伸 | 申请收文
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- 2022-12-01
0729 , 0734 , 0744 , 0750 0729-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺,
0734-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱,
0744-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱,
0744-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺,
0750-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱
0729-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺;0734-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱;0744-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱;0744-用于制造和加工化学工业和半导体工业产品的表面处理的机器和装置，尤指用于半导体晶片的湿化学蚀刻、清洁、干燥、表面涂层或电镀工艺;0750-半导体晶片生产过程中的运输设施及其集成箱 - 2022-10-21-2032-10-21
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