
【光迈创芯】商标详情

- 光迈创芯
- 92162124
- 待审中
- 普通商标
- 2026-06-02
0102 , 0104 , 0108 0102-盐类(化学制剂),
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-金属电镀用化学成分,
0108-离子交换树脂膜(化学制剂)
0102-盐类(化学制剂);0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-金属电镀用化学成分;0108-离子交换树脂膜(化学制剂) - 广州光迈创芯材料科技有限公司
- 广东省广州市************
- 华进联合专利商标代理有限公司
2026-07-13 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-06-02 商标注册申请 | 申请收文
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0102 , 0104 , 0108 0102-盐类(化学制剂),
0104-促进金属合金形成用化学制剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-金属电镀用化学成分,
0108-离子交换树脂膜(化学制剂)
0102-盐类(化学制剂);0104-促进金属合金形成用化学制剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-金属电镀用化学成分;0108-离子交换树脂膜(化学制剂) - 广州光迈创芯材料科技有限公司
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