
【创卓五八】商标详情

- 创卓五八
- 85567597
- 已初审
- 普通商标
- 2025-05-28
0101 , 0104 , 0108 0101-碱土金属,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0104-易燃制剂(发动机燃料用化学添加剂),
0104-金属加工用除油以外的介电流体(化 学制剂),
0104-铝土矿,
0108-未加工塑料(初成型塑料),
0108-未加工塑料(粉状、液状或膏状),
0108-蛋白质塑料,
0108-颗粒状或粉状未加工塑料
0101-碱土金属;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0104-易燃制剂(发动机燃料用化学添加剂);0104-金属加工用除油以外的介电流体(化学制剂);0104-铝土矿;0108-未加工塑料(初成型塑料);0108-未加工塑料(粉状、液状或膏状);0108-蛋白质塑料;0108-颗粒状或粉状未加工塑料 - 1951
- 2025-09-13
- 四川五八增材科技有限公司
- 四川省绵阳市************
- 超凡知识产权服务股份有限公司
2025-06-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-05-28 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-09-13 第1951期 查看公告
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- 2025-05-28
0101 , 0104 , 0108 0101-碱土金属,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用碳化硅,
0104-易燃制剂(发动机燃料用化学添加剂),
0104-金属加工用除油以外的介电流体(化学制剂),
0104-铝土矿,
0108-未加工塑料(初成型塑料),
0108-未加工塑料(粉状、液状或膏状),
0108-蛋白质塑料,
0108-颗粒状或粉状未加工塑料
0101-碱土金属;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用碳化硅;0104-易燃制剂(发动机燃料用化学添加剂);0104-金属加工用除油以外的介电流体(化学制剂);0104-铝土矿;0108-未加工塑料(初成型塑料);0108-未加工塑料(粉状、液状或膏状);0108-蛋白质塑料;0108-颗粒状或粉状未加工塑料 - 1951
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