【TLDP】商标详情
- TLDP
- 47952085
- 已注册
- 普通商标
- 2020-07-09
0104 0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品 - 1724
- 2020-12-20
- 1736
- 2021-03-21
- 2021-03-21-2031-03-20
- 东京应化工业株式会社
- 神奈川川崎市************
- 北京品源专利代理有限公司
2021-04-29 商标注册申请 | 注册证发文
2020-08-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2020-07-09 商标注册申请 | 申请收文
- TLDP
- 47952085
- 已注册
- 普通商标
- 2020-07-09
0104 0104-半导体生产 中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品 - 1724
- 2020-12-20
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- 东京应化工业株式会社
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2021-04-29 商标注册申请 | 注册证发文
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