【NXPOL】商标详情
- NXPOL
- 93661825
- 待审中
- 普通商标
- 2026-08-24
0302 , 0303 , 0304 , 0306 , 0307 0302-去污剂,
0303-抛光乳膏,
0303-抛光制剂,
0303-抛光蜡,
0304-研磨剂,
0304-研磨带,
0304-研磨材料,
0306-指甲抛光粉,
0307-牙齿抛光剂
0302-去污剂;0303-抛光乳膏;0303-抛光制剂;0303-抛光蜡;0304-研磨剂;0304-研磨带;0304-研磨材料;0306-指甲抛光粉;0307-牙齿抛光剂 - 杭州探索抛光技术有限公司
- 浙江省杭州市************
2026-09-08 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-08-24 商标注册申请 | 申请收文
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0303-抛光乳膏,
0303-抛光制剂,
0303-抛光蜡,
0304-研磨剂,
0304-研磨带,
0304-研磨材料,
0306-指甲抛光粉,
0307-牙齿抛光剂
0302-去污剂;0303-抛光乳膏;0303-抛光制剂;0303-抛光蜡;0304-研磨剂;0304-研磨带;0304-研磨材料;0306-指甲抛光粉;0307-牙齿抛光剂 - 杭州探索抛光技术有限公司
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