【奥通】商标详情
- 奥通
- 81008007
- 待审中
- 普通商标
- 2024-09-20
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用石墨,
0101-蓄电池用人造石墨,
0102-碳化硅,
0102-碳化硅(原材料),
0102-碳化硅(生产其他产品用原材料),
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用炭黑,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101- 工业用人造石墨;0101-工业用石墨;0101-蓄电池用人造石墨;0102-碳化硅;0102-碳化硅(原材料);0102-碳化硅(生产其他产品用原材料);0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用炭黑;0104-工业用碳化硅 - 奥通碳素(内江)科技有限公司
- 四川省内江市************
- 成都高锦道知识产权代理事务所(普通合伙)
2024-10-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-09-20 商标注册申请 | 申请收文
- 奥通
- 81008007
- 待审中
- 普通商标
- 2024-09-20
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用人造石墨,
0101-工业用石墨,
0101-蓄电池用人造石墨,
0102-碳化硅,
0102-碳化硅(原材料),
0102-碳化硅(生产其他产品用原材料),
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用炭黑,
0104-工业用碳化硅
0101-半导体用硅;0101-工业用人造石墨;0101-工业用石墨;0101-蓄电池用人造石墨;0102-碳化硅;0102-碳化硅(原材料);0102-碳化硅(生产其他产品用原材料);0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用炭黑;0104-工业用碳化硅 - 奥通碳素(内江)科技有限公司
- 四川省内江市************
- 成都高锦道知识产权代理事务所(普通合伙)
2024-10-19 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-09-20 商标注册申请 | 申请收文