【AUNER】商标详情
- AUNER
- 65849280
- 已注册
- 普通商标
- 2022-07-08
0101 , 0102 , 0104 , 0106 0101-工业硅,
0102-工业用碱性碘化物,
0102-有机金属化合物,
0102-盐类（化学制剂）,
0102-碱（化学制剂）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0101-工业硅;0102-工业用碱性碘化物;0102-有机金属化合物;0102-盐类（化学制剂）;0102-碱（化学制剂）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 1820
- 2022-12-20
- 1832
- 2023-03-21
- 2023-03-21-2033-03-20
- 北京曜能科技有限公司
- 北京市北京市************
- 北京睿德智知识产权管理有限公司
2023-10-11 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2023-09-22 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2023-04-13 商标注册申请 | 注册证发文
2022-12-09 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-10-14 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2022-10-14 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-07-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-07-22 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2022-07-08 商标注册申请 | 申请收文
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0102-工业用碱性碘化物,
0102-有机金属化合物,
0102-盐类（化学制剂）,
0102-碱（化学制剂）,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）
0101-工业硅;0102-工业用碱性碘化物;0102-有机金属化合物;0102-盐类（化学制剂）;0102-碱（化学制剂）;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用） - 1820
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2022-12-09 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-10-14 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
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2022-07-22 商标注册申请 | 受理通知书发文
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