【NEXTLA】商标详情
- NEXTLA
- 75492123
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-29
0715 , 0742 , 0744 -半导体晶片用抛光垫(机器部件),
-玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),
-玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),
-铝基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),
0715-处理陶瓷和金属的研磨机,
0742-半导体晶片表面抛光机器和设备(电动的),
0742-处理陶瓷和金属的研磨机,
0742-抛光机器和设备(电动的),
0742-玻璃基板抛光机器和设备(电动的),
0742-玻璃用抛光机器和设备(电动的),
0742-铝基板抛光用机器和设备(电动的),
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-静电工业设备
-半导体晶片用抛光垫(机器部件);-玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件);-玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件);-铝基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件);0715-处理陶瓷和金属的研磨机;0742-半导体晶片表面抛光机器和设备(电动的);0742-处理陶瓷和金属的研磨机;0742-抛光机器和设备(电动的);0742-玻璃基板抛光机器和设备(电动的);0742-玻璃用抛光机器和设备(电动的);0742-铝基板抛光用机器和设备(电动的);0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-静电工业设备 - 1888
- 2024-05-20
- 1900
- 2024-08-21
- 2024-08-21-2034-08-20
- 富士纺控股株式会社
- 东京都东京************
- 北京众天扬知识产权代理有限公司
2024-09-15 商标注册申请 | 注册证发文
2024-05-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-03-08 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-23 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-11-29 商标注册申请 | 申请收文
- NEXTLA
- 75492123
- 已注册
- 普通商标
- 2023-11-29
0715 , 0742 , 0744 -半导体晶片用抛光垫(机器部件 ),
-玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),
-玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件),
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0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
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0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-静电工业设备
-半导体晶片用抛光垫(机器部件);-玻璃基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件);-玻璃抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件);-铝基板抛光机器和设备用的抛光垫(机器部件);0715-处理陶瓷和金属的研磨机;0742-半导体晶片表面抛光机器和设备(电动的);0742-处理陶瓷和金属的研磨机;0742-抛光机器和设备(电动的);0742-玻璃基板抛光机器和设备(电动的);0742-玻璃用抛光机器和设备(电动的);0742-铝基板抛光用机器和设备(电动的);0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-静电工业设备 - 1888
- 2024-05-20
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- 2024-08-21
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2024-01-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-23 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-11-29 商标注册申请 | 申请收文