【湛为】商标详情
- 湛为
- 85065543
- 已注册
- 普通商标
- 2025-04-30
0101 , 0102 , 0104 0101-压缩氢气,
0101-压缩氮气,
0102-三氯氢硅,
0102-二氯二氢硅,
0102-四氯化硅,
0102-有机硅烷,
0102-氯化物,
0102-氯化钙,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-压缩氢气;0101-压缩氮气;0102-三氯氢硅;0102-二氯二氢硅;0102-四氯化硅;0102-有机硅烷;0102-氯化物;0102-氯化钙;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1950
- 2025-09-06
- 1962
- 2025-12-07
- 2025-12-07-2035-12-06
- 江苏华中气体有限公司
- 江苏省徐州市************
- 北京理士知识产权代理有限公司
2026-10-12 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 变更证明
2026-09-28 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 补正通知
2026-09-17 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2025-12-30 商标注册申请 | 注册证发文
2025-12-06 商标注册申请 | 排版注册公告
2025-09-23 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2025-09-06 商标注册申请 | 排版初审公告
2025-06-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-04-30 商标注册申请 | 申请收文
- 湛为
- 85065543
- 已注册
- 普通商标
- 2025-04-30
0101 , 0102 , 0104 0101-压缩氢气,
0101-压缩氮气,
0102-三氯氢硅,
0102-二氯二氢硅,
0102-四氯化硅,
0102-有机硅烷,
0102-氯化物,
0102-氯化钙,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-压缩氢气;0101-压缩氮气;0102-三氯氢硅;0102-二氯二氢硅;0102-四氯化硅;0102-有机硅烷;0102-氯化物;0102-氯化钙;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1950
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- 2025-12-07
- 2025-12-07-2035-12-06
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2026-09-28 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 补正通知
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2025-12-30 商标注册申请 | 注册证发文
2025-12-06 商标注册申请 | 排版注册公告
2025-09-23 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2025-09-06 商标注册申请 | 排版初审公告
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