【昌鹏】商标详情
- 昌鹏
- 71433680
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-09
0102 , 0104 , 0108 0102-氯化铝,
0102-表面活性化学剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-水净化化学品,
0104-水软化用化学品,
0104-油井钻井液用化学添加剂,
0104-游泳池净化水用化学品,
0104-热水处理系统用化学品,
0108-聚酰胺
0102-氯化铝;0102-表面活性化学剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用废水处理化学品;0104-水净化化学品;0104-水软化用化学品;0104-油井钻井液用化学添加剂;0104-游泳池净化水用化学品;0104-热水处理系统用化学品;0108-聚酰胺 - 1867
- 2023-12-13
- 1879
- 2024-03-14
- 2024-03-14-2034-03-13
- 廊坊昌鹏环保科技有限公司
- 河北省廊坊市************
2024-04-08 商标注册申请 | 注册证发文
2023-12-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2023-10-08 商标注册申请 | 驳回通知发文
2023-06-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-27 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-05-09 商标注册申请 | 申请收文
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- 71433680
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-09
0102 , 0104 , 0108 0102-氯化铝,
0102-表面活性化学剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-水净化化学品,
0104-水软化用化学品,
0104-油井钻井液用化学添加剂,
0104-游泳池净化水用化学品,
0104-热水处理系统用化学品,
0108-聚酰胺
0102-氯化铝;0102-表面活性化学剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用废水处理化学品;0104-水净化化学品;0104-水软化用化学品;0104-油井钻井液用化学添加剂;0104-游泳池净化水用化学品;0104-热水处理系统用化学品;0108-聚酰胺 - 1867
- 2023-12-13
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2023-12-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
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2023-06-05 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-27 商标注册申请 | 补正通知发文
2023-05-09 商标注册申请 | 申请收文
